Dengan menggunakan Rangkaian Paralel. Maka Engineer tersebut menggunakan 2 buah Kapasitor yang bernilai 1000pF yang kemudian. Fungsi Transistor dan Cara. Commodores Discografia Download Torrent.

Kapasitor MOS dalam IC merupakan kapasitor keping sejajar. Keping bawah dibuat dengan proses difusi n+ yang heavily doping, dikerjakan bersamaan dengan proses difusi emitter untuk transistor n-p-n dalam IC. Lapisan dielektriknya merupakan lapisan silikon dioksida tipis. Sebagai keping atasnya adalah lapisan metalisasi tipis yang dikerjakan bersamaan dengan pembuatan lapisan metalisasi untuk interkoneksi. Bila semua isolasi sudah selesai dikerjakan dengan proses difusi isolasi, dan seluruh permukaan sudah dilapisi silikon dioksida, maka fabrikasi kapasitor MOS masih memerlukan masker-masker untuk proses-proses: • difusi n+ • pembuatan lapisan silikon dioksida • pembuatan lubang kontak ( window) • pembuuatan lapisan metalisasi untuk keping atas metal dan konduktor interkoneksi. Dalam pembuatan masker, dimensi keping kapasitor ditentukan dengan asumsi bahwa yang dinamakan fringing effect boleh diabaikan, sehingga kapasitansi kapasitor MOS dapat dihitung rumus kapasitor keping sejajar ini. Shruti Box Free Download For Windows Pc. C = (K o ε o A )/d dimana K o = kostante dielektrik relatip silikon dioksida = 3,9 ε o = permitiviti ruang bebas = 88,6 x 10 -12 d = ketebalan dielektrik silikon dioksida A = luas keping atas yang efektip Dalam kapasitor MOS, luas keping bawah harus lebih besar dari keping atas, karena fringing effect boleh diabaikan, sehingga luas keping atas dianggap luas A yang efektip.